當前位置：首頁 SCI期刊 SCIE期刊物理與天體物理中科院3區 JCRQ2 期刊介紹(非官網)

Plasma Chemistry And Plasma ProcessingSCIE

國際簡稱：PLASMA CHEM PLASMA P 參考譯名：等離子化學和等離子處理

中科院分區
3區
CiteScore分區
Q1
JCR分區
Q2

基本信息：: ISSN：0272-4324; E-ISSN：1572-8986; 是否OA：未開放; 是否預警：否; TOP期刊：否

出版信息：: 出版地區：UNITED STATES; 出版商：Springer US; 出版語言：English; 出版周期：Quarterly; 出版年份：1981; 研究方向：工程技術-工程：化工

評價信息：: 影響因子：2.6; H-index：57; CiteScore指數：5.9; SJR指數：0.48; SNIP指數：0.912

發文數據：: Gold OA文章占比：14.18%; 研究類文章占比：95.12%; 年發文量：123; 自引率：0.0833...; 開源占比：0.0935; 出版撤稿占比：0; 出版國人文章占比：0.18; OA被引用占比：0.0820...

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英文簡介期刊介紹 CiteScore數據中科院SCI分區 JCR分區發文數據常見問題

英文簡介Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊介紹

Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.

期刊簡介Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊介紹

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》自1981出版以來，是一本物理與天體物理優秀雜志。致力于發表原創科學研究結果，并為物理與天體物理各個領域的原創研究提供一個展示平臺，以促進物理與天體物理領域的的進步。該刊鼓勵先進的、清晰的闡述，從廣泛的視角提供當前感興趣的研究主題的新見解，或審查多年來某個重要領域的所有重要發展。該期刊特色在于及時報道物理與天體物理領域的最新進展和新發現新突破等。該刊近一年未被列入預警期刊名單，目前已被權威數據庫SCIE收錄，得到了廣泛的認可。

該期刊投稿重要關注點：

預計審稿時間：較慢,6-12周
物理與天體物理
ENGINEERING, CHEMICAL
SCIE
中科院3區
非預警

Cite Score數據（2024年最新版）Plasma Chemistry And Plasma Processing Cite Score數據

CiteScore：5.9
SJR：0.48
SNIP：0.912

學科類別	分區	排名	百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics	Q1	108 / 434	75%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films	Q2	34 / 132	74%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemical Engineering	Q2	79 / 273	71%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemistry	Q2	119 / 408	70%

CiteScore 是由Elsevier(愛思唯爾)推出的另一種評價期刊影響力的文獻計量指標。反映出一家期刊近期發表論文的年篇均引用次數。CiteScore以Scopus數據庫中收集的引文為基礎，針對的是前四年發表的論文的引文。CiteScore的意義在于，它可以為學術界提供一種新的、更全面、更客觀地評價期刊影響力的方法，而不僅僅是通過影響因子(IF)這一單一指標來評價。

歷年Cite Score趨勢圖

中科院SCI分區Plasma Chemistry And Plasma Processing 中科院分區

中科院 2023年12月升級版 綜述期刊：否 Top期刊：否

大類學科	分區	小類學科	分區
物理與天體物理	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區

中科院分區表 是以客觀數據為基礎，運用科學計量學方法對國際、國內學術期刊依據影響力進行等級劃分的期刊評價標準。它為我國科研、教育機構的管理人員、科研工作者提供了一份評價國際學術期刊影響力的參考數據，得到了全國各地高校、科研機構的廣泛認可。

中科院分區表 將所有期刊按照一定指標劃分為1區、2區、3區、4區四個層次，類似于“優、良、及格”等。最開始，這個分區只是為了方便圖書管理及圖書情報領域的研究和期刊評估。之后中科院分區逐步發展成為了一種評價學術期刊質量的重要工具。

歷年中科院分區趨勢圖

JCR分區Plasma Chemistry And Plasma Processing JCR分區

2023-2024 年最新版

按JIF指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL	SCIE	Q3	91 / 170	46.8%
學科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	81 / 179	55%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q2	12 / 40	71.3%

按JCI指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL	SCIE	Q2	55 / 171	68.13%
學科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	69 / 179	61.73%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q2	17 / 40	58.75%

JCR分區的優勢在于它可以幫助讀者對學術文獻質量進行評估。不同學科的文章引用量可能存在較大的差異，此時單獨依靠影響因子(IF)評價期刊的質量可能是存在一定問題的。因此，JCR將期刊按照學科門類和影響因子分為不同的分區，這樣讀者可以根據自己的研究領域和需求選擇合適的期刊。

歷年影響因子趨勢圖

發文數據

2023-2024 年國家/地區發文量統計

國家/地區數量
CHINA MAINLAND70
Russia37
USA29
France26
GERMANY (FED REP GER)21
Czech Republic15
Iran14
India12
Japan12
Poland11

本刊中國學者近年發表論文

1、Plasma-Catalytic Ammonia Decomposition for Carbon-Free Hydrogen Production Using Low Pressure-Synthesized Mo2N Catalyst
Author: Yu, Xiuxia; Hu, Ke; Zhang, Huazhou; He, Ge; Xia, Yuanhua; Deng, Mao; Shi, Yang; Yang, Chi; Mao, Xinchun; Wang, Zhijun

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 183-197. DOI: 10.1007/s11090-022-10282-y
2、Electron Density and Electron Temperature Control with a Magnetic Field and a Grid in Inductively Coupled Argon Plasma
Author: He, Yun-peng; Jin, Wei; Wang, Yi-bo; Lv, Shao-bo; Wang, Rui-sheng; Liu, Jun-qi; Liu, Hai-cheng

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 381-400. DOI: 10.1007/s11090-022-10295-7
3、Study on the Anticancer Effects of Plasma-Activated Saline Perfusion Based on a Microfluidic System
Author: Zhang, Jishen; Xu, Shengduo; Jing, Xixi; Liu, Dingxin; Zhang, Hao; Wang, Zifeng; Xu, Dehui; Zhang, Geng; Yang, Xiaojian; Wang, Xiaohua; Kong, Michael G.; Rong, Mingzhe

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 99-110. DOI: 10.1007/s11090-022-10297-5
4、A RF plasma source with focused magnetic field for material treatment
Author: Zhang, L. P.; Chang, L.; Yuan, X. G.; Zhang, J. H.; Zhou, H. S.; Luo, G. N.

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 329-345. DOI: 10.1007/s11090-022-10300-z
5、Influence Mechanism of O-2/H2O Adsorption on Cu(111) Surface on SF6 Overheating Failure Decomposition
Author: Zeng, Fuping; Kexin Zhu; Su, Dazhi; Feng, Xiaoxuan; Guo, Xinnuo; Yao, Qiang; Tang, Ju

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 67-80. DOI: 10.1007/s11090-022-10305-8
6、Synergistic 2,4-D Degradation by Fenton Reagent Obtained from Glow Discharge Plasma Formed H2O2 and DBD Pretreated Fe-Rich Sludge Catalyst
Author: Huang, Shaoyong; Huang, Quanjia; Gan, Jiaming; Li, Ting; Wang, Lei

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 2, pp. 491-511. DOI: 10.1007/s11090-022-10306-7
7、Hydrodeoxygenation of o-Cresol Over Mo2C Modified by O-2 Plasma
Author: Yu, Zihan; Yu, Zhiquan; Wang, Yao; Liu, Yingya; Wang, Anjie

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 2, pp. 533-545. DOI: 10.1007/s11090-022-10310-x
8、Theoretical Study on the Degradation Pathways of Unsymmetrical Dimethylhydrazine by Aqueous O-3
Author: Luo, Santu; Fu, Yuwei; Zhang, Mingyan; Liu, Yifan; Wang, Diankai; Zhang, Jiawei; Liu, Dingxin; Rong, Mingzhe

Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2023; Vol. 43, Issue 1, pp. 81-97. DOI: 10.1007/s11090-022-10307-6