當(dāng)前位置：首頁(yè) SCI期刊 SCIE期刊物理與天體物理中科院2區(qū) JCRQ3 期刊介紹(非官網(wǎng))

Journal Of Micro-nanolithography Mems And MoemsSCIE

國(guó)際簡(jiǎn)稱：J MICRO-NANOLITH MEM 參考譯名：微納光刻技術(shù)雜志

中科院分區(qū)
2區(qū)
CiteScore分區(qū)
Q2
JCR分區(qū)
Q3

基本信息：: ISSN：1932-5150; E-ISSN：1932-5134; 是否OA：未開放; 是否預(yù)警：否; TOP期刊：是

出版信息：: 出版地區(qū)：UNITED STATES; 出版商：SPIE; 出版語(yǔ)言：English; 出版周期：Quarterly; 出版年份：2007; 研究方向：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY

評(píng)價(jià)信息：: H-index：37; CiteScore指數(shù)：3.4; SJR指數(shù)：0.393; SNIP指數(shù)：1.723

發(fā)文數(shù)據(jù)：: Gold OA文章占比：7.69%; 研究類文章占比：0.00%; 年發(fā)文量：0; 自引率：0; 開源占比：0.0769; 出版撤稿占比：; 出版國(guó)人文章占比：0; OA被引用占比：

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英文簡(jiǎn)介期刊介紹 CiteScore數(shù)據(jù) 中科院SCI分區(qū) JCR分區(qū) 常見問題

英文簡(jiǎn)介Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊介紹

The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

期刊簡(jiǎn)介Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊介紹

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》自2007出版以來，是一本物理與天體物理優(yōu)秀雜志。致力于發(fā)表原創(chuàng)科學(xué)研究結(jié)果，并為物理與天體物理各個(gè)領(lǐng)域的原創(chuàng)研究提供一個(gè)展示平臺(tái)，以促進(jìn)物理與天體物理領(lǐng)域的的進(jìn)步。該刊鼓勵(lì)先進(jìn)的、清晰的闡述，從廣泛的視角提供當(dāng)前感興趣的研究主題的新見解，或?qū)彶槎嗄陙砟硞€(gè)重要領(lǐng)域的所有重要發(fā)展。該期刊特色在于及時(shí)報(bào)道物理與天體物理領(lǐng)域的最新進(jìn)展和新發(fā)現(xiàn)新突破等。該刊近一年未被列入預(yù)警期刊名單，目前已被權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄，得到了廣泛的認(rèn)可。

該期刊投稿重要關(guān)注點(diǎn)：

預(yù)計(jì)審稿時(shí)間：較慢,6-12周
國(guó)際TOP期刊
物理與天體物理
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
SCIE
中科院2區(qū)
非預(yù)警

Cite Score數(shù)據(jù)（2024年最新版）Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems Cite Score數(shù)據(jù)

CiteScore：3.4
SJR：0.393
SNIP：1.723

學(xué)科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering	Q2	299 / 672	55%
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering	Q2	389 / 797	51%
大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics	Q3	113 / 224	49%
大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics	Q3	223 / 434	48%
大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials	Q3	155 / 284	45%

CiteScore 是由Elsevier(愛思唯爾)推出的另一種評(píng)價(jià)期刊影響力的文獻(xiàn)計(jì)量指標(biāo)。反映出一家期刊近期發(fā)表論文的年篇均引用次數(shù)。CiteScore以Scopus數(shù)據(jù)庫(kù)中收集的引文為基礎(chǔ)，針對(duì)的是前四年發(fā)表的論文的引文。CiteScore的意義在于，它可以為學(xué)術(shù)界提供一種新的、更全面、更客觀地評(píng)價(jià)期刊影響力的方法，而不僅僅是通過影響因子(IF)這一單一指標(biāo)來評(píng)價(jià)。

歷年Cite Score趨勢(shì)圖

中科院SCI分區(qū)Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 中科院分區(qū)

中科院 2023年12月升級(jí)版 綜述期刊：否 Top期刊：否

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)
物理與天體物理	2區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué)	3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院分區(qū)表 是以客觀數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)，運(yùn)用科學(xué)計(jì)量學(xué)方法對(duì)國(guó)際、國(guó)內(nèi)學(xué)術(shù)期刊依據(jù)影響力進(jìn)行等級(jí)劃分的期刊評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)。它為我國(guó)科研、教育機(jī)構(gòu)的管理人員、科研工作者提供了一份評(píng)價(jià)國(guó)際學(xué)術(shù)期刊影響力的參考數(shù)據(jù)，得到了全國(guó)各地高校、科研機(jī)構(gòu)的廣泛認(rèn)可。

中科院分區(qū)表 將所有期刊按照一定指標(biāo)劃分為1區(qū)、2區(qū)、3區(qū)、4區(qū)四個(gè)層次，類似于“優(yōu)、良、及格”等。最開始，這個(gè)分區(qū)只是為了方便圖書管理及圖書情報(bào)領(lǐng)域的研究和期刊評(píng)估。之后中科院分區(qū)逐步發(fā)展成為了一種評(píng)價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的重要工具。

歷年中科院分區(qū)趨勢(shì)圖

JCR分區(qū)Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems JCR分區(qū)

2023-2024 年最新版

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q3	187 / 275	32.2%
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY	SCIE	Q3	255 / 342	25.6%
學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY	SCIE	Q4	91 / 107	15.4%
學(xué)科：OPTICS	SCIE	Q3	68 / 100	32.5%

JCR分區(qū)的優(yōu)勢(shì)在于它可以幫助讀者對(duì)學(xué)術(shù)文獻(xiàn)質(zhì)量進(jìn)行評(píng)估。不同學(xué)科的文章引用量可能存在較大的差異，此時(shí)單獨(dú)依靠影響因子(IF)評(píng)價(jià)期刊的質(zhì)量可能是存在一定問題的。因此，JCR將期刊按照學(xué)科門類和影響因子分為不同的分區(qū)，這樣讀者可以根據(jù)自己的研究領(lǐng)域和需求選擇合適的期刊。

歷年影響因子趨勢(shì)圖