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Japanese Journal Of Applied PhysicsSCIE

國際簡稱：JPN J APPL PHYS 參考譯名：日本應用物理學雜志

中科院分區
4區
CiteScore分區
Q2
JCR分區
Q3

基本信息：: ISSN：0021-4922; E-ISSN：1347-4065; 是否OA：未開放; 是否預警：否; TOP期刊：否

出版信息：: 出版地區：JAPAN; 出版商：Japan Society of Applied Physics; 出版語言：English; 出版周期：Monthly; 出版年份：1962; 研究方向：物理-物理：應用

評價信息：: 影響因子：1.5; H-index：116; CiteScore指數：3; SJR指數：0.307; SNIP指數：0.631

發文數據：: Gold OA文章占比：9.51%; 研究類文章占比：93.80%; 年發文量：839; 自引率：0.2666...; 開源占比：0.0648; 出版撤稿占比：0; 出版國人文章占比：0; OA被引用占比：0.0835...

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英文簡介期刊介紹 CiteScore數據中科院SCI分區 JCR分區發文數據常見問題

英文簡介Japanese Journal Of Applied Physics期刊介紹

The Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) is an international journal for the advancement and dissemination of knowledge in all fields of applied physics. JJAP is a sister journal of the Applied Physics Express (APEX) and is published by IOP Publishing Ltd on behalf of the Japan Society of Applied Physics (JSAP).

JJAP publishes articles that significantly contribute to the advancements in the applications of physical principles as well as in the understanding of physics in view of particular applications in mind. Subjects covered by JJAP include the following fields:

? Semiconductors, dielectrics, and organic materials

? Photonics, quantum electronics, optics, and spectroscopy

? Spintronics, superconductivity, and strongly correlated materials

? Device physics including quantum information processing

? Physics-based circuits and systems

? Nanoscale science and technology

? Crystal growth, surfaces, interfaces, thin films, and bulk materials

? Plasmas, applied atomic and molecular physics, and applied nuclear physics

? Device processing, fabrication and measurement technologies, and instrumentation

? Cross-disciplinary areas such as bioelectronics/photonics, biosensing, environmental/energy technologies, and MEMS

期刊簡介Japanese Journal Of Applied Physics期刊介紹

《Japanese Journal Of Applied Physics》自1962出版以來，是一本物理與天體物理優秀雜志。致力于發表原創科學研究結果，并為物理與天體物理各個領域的原創研究提供一個展示平臺，以促進物理與天體物理領域的的進步。該刊鼓勵先進的、清晰的闡述，從廣泛的視角提供當前感興趣的研究主題的新見解，或審查多年來某個重要領域的所有重要發展。該期刊特色在于及時報道物理與天體物理領域的最新進展和新發現新突破等。該刊近一年未被列入預警期刊名單，目前已被權威數據庫SCIE收錄，得到了廣泛的認可。

該期刊投稿重要關注點：

預計審稿時間：約2.0個月
物理與天體物理
PHYSICS, APPLIED
SCIE
中科院4區
非預警

Cite Score數據（2024年最新版）Japanese Journal Of Applied Physics Cite Score數據

CiteScore：3
SJR：0.307
SNIP：0.631

學科類別	分區	排名	百分位
大類：Engineering 小類：General Engineering	Q2	119 / 307	61%
大類：Engineering 小類：General Physics and Astronomy	Q2	108 / 243	55%

CiteScore 是由Elsevier(愛思唯爾)推出的另一種評價期刊影響力的文獻計量指標。反映出一家期刊近期發表論文的年篇均引用次數。CiteScore以Scopus數據庫中收集的引文為基礎，針對的是前四年發表的論文的引文。CiteScore的意義在于，它可以為學術界提供一種新的、更全面、更客觀地評價期刊影響力的方法，而不僅僅是通過影響因子(IF)這一單一指標來評價。

歷年Cite Score趨勢圖

中科院SCI分區Japanese Journal Of Applied Physics 中科院分區

中科院 2023年12月升級版 綜述期刊：否 Top期刊：否

大類學科	分區	小類學科	分區
物理與天體物理	4區	PHYSICS, APPLIED 物理：應用	4區

中科院分區表 是以客觀數據為基礎，運用科學計量學方法對國際、國內學術期刊依據影響力進行等級劃分的期刊評價標準。它為我國科研、教育機構的管理人員、科研工作者提供了一份評價國際學術期刊影響力的參考數據，得到了全國各地高校、科研機構的廣泛認可。

中科院分區表 將所有期刊按照一定指標劃分為1區、2區、3區、4區四個層次，類似于“優、良、及格”等。最開始，這個分區只是為了方便圖書管理及圖書情報領域的研究和期刊評估。之后中科院分區逐步發展成為了一種評價學術期刊質量的重要工具。

歷年中科院分區趨勢圖

JCR分區Japanese Journal Of Applied Physics JCR分區

2023-2024 年最新版

按JIF指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	134 / 179	25.4%

按JCI指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q4	140 / 179	22.07%

JCR分區的優勢在于它可以幫助讀者對學術文獻質量進行評估。不同學科的文章引用量可能存在較大的差異，此時單獨依靠影響因子(IF)評價期刊的質量可能是存在一定問題的。因此，JCR將期刊按照學科門類和影響因子分為不同的分區，這樣讀者可以根據自己的研究領域和需求選擇合適的期刊。

歷年影響因子趨勢圖

本刊中國學者近年發表論文

1、Core and filamentary damage of fused silica induced by nanosecond laser at 1064 nm
Author: Zhang, Fawang; Wang, Biyi; Liu, Xinyi; Xu, Man; Liu, Hufeng; Miao, Xinxiang; Lu, Tao; Qiu, Rong; Guo, Decheng; Zhou, Qiang; Jiang, Yong

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca3e4
2、Improved performance of enhancement-mode GaN MIS-FET based on a self-terminating gate recess etching technique with in situ NH3 pre-treatment
Author: Zhang, Bin; Wang, Jinyan; Li, Mengjun; Huang, Chengyu; He, Jiayin; Wang, Xin; Wang, Chen; Wang, Hongyue; Mo, Jianghui; Wang, Maojun; Wu, Wengang

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca3e3
3、2D scalar wave modelling of apodized RF BAW resonators for transverse mode analysis
Author: Wu, Ting; He, Yi-wen; Wong, Yu-po; Li, Wuping; Bao, Jing-fu; Hashimoto, Ken-ya

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca5d8
4、Electrical and optical properties of highly crystalline W-VO2 nano-films prepared by thermal oxidation of V-WO3 precursors
Author: Luo, Jie; Gong, Mengtao; Tian, Shouqin; Zhou, Lincan; Zheng, Tao; Zhao, Xiujian; Liu, Baoshun

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acae68
5、Investigation of PVT variation on single-event transient effect assisted with hardened layout techniques
Author: Liang, Bin; Luo, Deng; Sun, Qian; Chen, Yanrong; Zhang, Kangkai; Chen, Wangyong

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca7a6
6、TO1 soft mode in Fe doped beta-Ga2O3 studied by terahertz time-domain spectroscopy
Author: Jiang, Hao; Wang, Ke; Gong, Chen; Murakami, Hironaru; Tonouchi, Masayoshi

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acae52
7、Influence of anti-phase surface relief structure on optical mode and laser output power for 450 nm GaN-based VCSELs
Author: Gao, Yuanbin; Chu, Chunshuang; Hang, Sheng; Zhang, Yonghui; Zhou, Jianwei; Zhang, Zi-Hui

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acaba0
8、Heterogeneous integration of lithium tantalate thin film on quartz for high performance surface acoustic wave resonator
Author: Chen, Yang; Wu, Jinbo; Zhao, Xiaomeng; Li, Zhongxu; Ke, Xinjian; Zhang, Shibin; Zhou, Min; Huang, Kai; Ou, Xin

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca5d7