主管單位:中國電子科技集團公司 主辦單位:中國電子科技集團公司第四十五研究所
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《電子工業專用設備》是由中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦,中國電子科技集團公司主管的全國性電子類期刊,創刊于1971年,刊號(CN 62-1077/TN,ISSN 1004-4507),全年定價:256.00元/期,雙月刊。該雜志以刊登電子科學論文、評價電子科研成果、探討電子教學規律、傳播電子教學經驗、開展電子學術討論、報道電子研究動態、提供國內外電子信息為主旨,引領電子前沿和熱難點問題研究,助電子經學者成長。該刊級別為部級期刊,歡迎廣大讀者訂閱。
《電子工業專用設備》期刊欄目主要有:先進封裝技術與設備 半導體制造工藝與設備 電子專用設備研究 專用設備維護與保養
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(4)本刊統一采用頁底腳注的形式,每頁注釋重新編號,注釋序號用①,②……標識。注碼置于引文結束的標點符號之后右上方。
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年度 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 |
影響因子 | 0.11 | 0.09 | 0.09 | 0.1 | 0.23 | 0.22 | 0.3 | 0.38 |
立即指數 | 0.02 | 0.03 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.03 | 0.04 | 0.04 |
發文量 | 230 | 196 | 98 | 102 | 95 | 90 | 90 | 91 |
引用半衰期 | 7.43 | 7.04 | 9.35 | 8.7 | 8.75 | 9.55 | 8.26 | 6.91 |
被引半衰期 | 5.82 | 6.52 | 7.2 | 7.57 | 6.96 | 8.4 | 7.9 | 7.71 |
被引次數 | 266 | 287 | 232 | 274 | 301 | 272 | 337 | 318 |
期刊他引率 | 0.83 | 0.86 | 0.93 | 0.89 | 0.87 | 0.88 | 0.91 | 0.86 |
平均引文率 | 2.5 | 2.5 | 4.4 | 4.3 | 5.9 | 5.4 | 5 | 4.9 |
1、主要引證文獻期刊分析
序號 | 期刊 | 涉及文獻量 |
1 | 《電子工藝技術》 | 104 |
2 | 《電子與封裝》 | 94 |
3 | 《半導體技術》 | 94 |
4 | 《微納電子技術》 | 74 |
5 | 《金剛石與磨料磨具工程》 | 39 |
6 | 《中國集成電路》 | 38 |
7 | 《制造業自動化》 | 38 |
8 | 《機電工程技術》 | 38 |
9 | 《機械設計與制造》 | 36 |
10 | 《人工晶體學報》 | 34 |
2、主要參考文獻期刊分析
序號 | 期刊 | 涉及文獻量 |
1 | 《半導體技術》 | 164 |
2 | 《電子工藝技術》 | 157 |
3 | 《電子與封裝》 | 76 |
4 | 《微納電子技術》 | 59 |
5 | 《集成電路應用》 | 48 |
6 | 《Journal of Semiconductors》 | 39 |
7 | 《微細加工技術》 | 39 |
8 | 《中國集成電路》 | 30 |
9 | 《組合機床與自動化加工技術》 | 29 |
10 | 《印制電路信息》 | 29 |
序號 | 機構名稱 | 發文量 | 相關發文主題 |
1 | 中國電子科技集團公司第四十五研究所 | 646 | 半導體;光刻;晶圓;電機;拋光 |
2 | 中國電子科技集團公司第二研究所 | 229 | 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝 |
3 | 中國電子科技集團公司第四十八研究所 | 168 | 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入 |
4 | 中國電子科技集團公司第四十六研究所 | 118 | 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區熔 |
5 | 電子工業部 | 115 | 半導體;光刻;曝光機;切片;切片機 |
6 | 北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓;劃片;劃片機;鍵合;封裝 |
7 | 中華人民共和國工業和信息化部 | 75 | 光刻;電路;電子專用設備;集成電路;半導體 |
8 | 中國電子科技集團公司 | 68 | 電路;集成電路;化學機械拋光;機械拋光;晶片 |
9 | 中國電子科技集團第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蝕;激光;光刻機;投影光刻 |
10 | 中國科學院 | 54 | 光刻;光刻機;電路;半導體;電子束曝光 |
電子工業專用設備雜志是由中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的一本部級期刊,國際刊號:1004-4507,國內刊號:62-1077/TN。電子工業專用設備雜志可用于職稱評定,您可以放心投稿。
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